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Runway ML是一家領先的AI設計與創作平臺，專注於為設計師、藝術家和開發者提供強大的工具，以實現他們的創意想法。該平臺利用先進的機器學習技術，讓用戶能夠輕鬆地生成、操作和優化複雜的視覺內容，從而將創意概念轉化為現實。